真空蒸着装置
【日本語】Ge、Si、ZnSe、ZnSなどの赤外線基板に対応。GTHC-8ホールイオンソースを搭載。膜層は密で均一。 【English】Supports Ge, Si, ZnSe and ZnS infrared substrates with GTHC-8 Hall ion source for dense and uniform films.
成都国泰真空設備有限公司—国泰真空は、真空成膜設備およびその部品の研究開発・生産・販売を専門とするハイテク企業で、国内外…
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